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德***Raith電子束光刻系統(tǒng)

德國(guó)Raith電子束光刻系統(tǒng)

德***Raith電子束光刻系統(tǒng)

1.掃描速度有：2.5MHz,4MHz，6MHz和10MHz多種選擇

2.工件臺(tái)移動(dòng)：45mmX45mm，150mmX150mm，200mmX200mm

3.激光工件臺(tái)的激光定位精度為2nm

主要特點(diǎn)1.可與多種SEM，F(xiàn)IB相結(jié)合形成電子束光刻系統(tǒng)

2.可提供三種型號(hào)的完整的電子束光刻系統(tǒng) (Raith50, Raith150, e_LiNE)

3.價(jià)格合理，特別適用于學(xué)校和科研單位

4.可根據(jù)用戶不同需求訂制配置

儀器介紹Raith是***際***的開發(fā)和生產(chǎn)電子束光刻系統(tǒng)的專業(yè)公司。該公司以其優(yōu)越的性能和適

中的價(jià)格為納米及亞微米結(jié)構(gòu)的科研和生產(chǎn)服務(wù)，贏得了世界范圍內(nèi)的包括IBM，AT&T

Stanford, Cambridge等300多***用戶。目前其主要產(chǎn)品和服務(wù)為：

1. 完整的電子束光刻系統(tǒng)Raith50， Raith150和e_LiNE：

1） e_LiNE可以用于加工六英寸的硅片，而Raith 150可以用于加工八英寸的硅片。

2） 使用壓電平衡和靜電吸盤保持硅片的聚焦平面。

3） 激光工件臺(tái)的激光定位精度為2nm。

4） 掃描速度為10MHz的高速圖形發(fā)生器。

5） 超長(zhǎng)穩(wěn)定性和極高亮度的熱場(chǎng)致發(fā)射電子槍和高速靜電束閘。

其主要應(yīng)用方面是：

1） 電子束直寫應(yīng)用。例如用于Si/GaAs 兼容工藝，研究用掩膜制造，納米光刻（例如

單電子器件、量子器件制作等）。

2） 高頻電子器件中的混合光刻（Mix & Match）。

3） 圖形線寬和圖形位移測(cè)量等

2．可根據(jù)用戶的應(yīng)用情況和設(shè)備情況為用戶的微細(xì)結(jié)構(gòu)研究和開發(fā)提供經(jīng)濟(jì)實(shí)用、方便

快捷的電子束光刻技術(shù)方案?？筛鶕?jù)用戶的要求將用戶已經(jīng)購買的各種不同型號(hào)的掃描

電子顯微鏡（JEOL，PHILIPS，AMRAY，HITACHI，CAMBRIDGE，ZEISS，等等），掃描

透射電子顯微鏡和聚焦離子束顯微鏡配備上圖形制作的功能，可以用它來制作微細(xì)圖形，

同時(shí)又不失去顯微鏡的功能。

3．電子束曝光中使用的鄰近效應(yīng)校正軟件和層***結(jié)構(gòu)的GDSⅡ編輯和瀏覽軟件。

4．大行程、高精度、激光干涉定位的超高真空工件臺(tái)。

5．半導(dǎo)體工業(yè)中造成失效的缺陷檢查和缺陷的CAD定位、集成電路解剖和圖象采集軟件

及工件臺(tái)。

6．各種特殊電子顯微鏡的配件的制作。如大行程、360度旋轉(zhuǎn)、大傾斜角度(傾斜時(shí)可

保持所選樣品點(diǎn)在中心位置不變)、高精度定位、拉伸、扭曲、加熱及冷卻或根據(jù)用

戶提出的特殊要求的樣品臺(tái)。